XHEMISTX-3000V内置VPD的TXRF光谱仪超快速金属污染分布验证VPD的最高灵敏度兼容最大300毫米的晶圆XHEMISTX-3000V规格技术全内反射X射线荧光光谱法（TXRF）与气相分解（VPD）用微量元素表面污染测量niyoru1E7原子/cm²检测限标测速度提高约3倍科技集成自动VPD制备、三光束激发和自动光学元件更换主要组件三探测器配置：高功率W与阴极X射线源（9kW旋转与阴极）3种激发能量，针对轻元素、过渡元素和重元素进行了优化XYθ样品台双FOUP负载...

TXRF3760系列全内反射X射线荧光光谱仪对晶圆表面的污染进行无损、非接触式和高灵敏度分析转子式高功率X射线发生器和新设计的入射X射线单色器过渡金属LLD10采用直接TXRF测量方法8原子/厘米2达到水平。在封闭X射线管测量时间的1/3内即可实现相同的精度，从而实现高通量。TXRF3760规格产品名称TXRF3760系列技术全内反射X射线荧光（TXRF）用从Na到You的元素分析以测量晶圆污染科技带无液氮检测器的3光束TXRF系统主要组件适用于最大200mm晶圆的XYθ样品...

WaferX310系列用于薄膜评估的X射线荧光光谱仪波长色散X射线荧光光谱仪（WD-XRF）可以无损、非接触式方式同时分析300mm和200mm晶圆上各种薄膜的厚度和成分。这是一种波长色散X射线荧光光谱仪（WD-XRF），可以无损、非接触的方式同时分析300mm和200mm晶圆上各种薄膜的厚度和成分。它与GEM300兼容，并支持300mmFab的在线规格。XYθZ驱动式样品台可准确分析各种金属膜，避免了衍射线的影响。使用4kW高功率X射线管可以测量痕量元素。此外，通过安装高灵...

晶圆/磁盘分析仪3650用于薄膜评估的X射线荧光光谱仪对各种薄膜的厚度和成分进行同步、无损、非接触分析这是一种波长色散X射线荧光光谱仪（WD-XRF），可以以非破坏性、非接触的方式同时分析最大~200mm晶圆上各种薄膜的厚度和成分。XYθZ驱动式样品台可准确分析各种金属膜，避免了衍射线的影响。使用4kW高功率X射线管可对超轻元素进行高精度分析，例如BPSG薄膜的痕量元素测量和硼分析。它还与C-to-C传输机器人（可选）兼容。它配备了AutoCal（全自动日常检查和强度校正功能...

XTRAIACD-3010G斜入射X射线CD测量工具可以使用GISAXS和X射线反射（XRR）测量来测量CD，以测量薄膜厚度、密度和粗糙度。兼容最大300毫米的晶圆XTRAIACD-3010G规格技术倾斜小角X射线散射测量（GISAXS），X射线反射测量（XRR）用浅层重复结构的临界尺寸测量X射线源包合管，CuKa（8.04KeV）X射线光学元件多层反射镜光学元件X射线探测器二维探测器主要组件图案化晶圆测量周期性精细3D形状线和空间，点或孔结构，浅孔/列，抗蚀剂，掩模图案，存...

漫反射型传感器O-21OT21-NS-2C文章编号：212982高能漫反射式传感器是经济型传感器，用于检测发射器和接收器位于一个外壳中的物体。它们评估物体反射的传感器光的能量。工作距离以及物体和背景的亮度会影响物体检测。使用高能漫反射传感器可以很好地检测到黑暗背景下的明亮物体。微型设计金属制安装元件高开关频率您的价格登录购物篮登录添加到书签比较产品技术细节下载信息电气特性工作电压10…30V直流空载电流（最大值）20毫安反极性保护是的短路保护是的绝缘电压耐久性500伏机械特性...